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Revêtement sous vide

Régulateur de débit massique EtherCAT à temps de réponse rapide pour le dépôt sous vide

La distribution de gaz purgés ou de gaz réactifs dans un système de revêtement sous vide requiert des temps de réponses rapides et un contrôle précis. Les régulateurs de débit massique Alicat et les régulateurs de pression offrent à la fois des vitesses élevées de temps de réponse de contrôle et des communications EtherCAT. Notre OnboardCAT embarqué permet de ne pas avoir besoin de traducteurs EtherCAT et facilite l’intégration dans les réseaux industriels d’automates (API).

Contrôle de la pression amont pour les systèmes de dépôt sous vide

La mise à niveau vers un régulateur de débit massique Alicat est facile. Notre série MCE répond à la spécification SEMI en ce qui concerne la longueur de connexion, elle est donc entièrement compatible avec de nombreux anciens régulateurs issus d’autres fabricants. Le MCV d’Alicat est un remplacement direct pour les régulateurs de débit massique plus anciens équipés de vannes d’arrêt pneumatiques intégrées.

Remplacements de pièces pour les régulateurs de débit massique vieillissants

Les gaz corrosifs et les précurseurs liquides utilisés dans les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de dépôt de couches atomiques (ALD) nécessitent des appareils à débit massique qui ne se corrodent pas avec le temps. Les régulateurs de débit massique de la série S d’ALICAT (MC, MCES, MCVS) utilisent des capteurs de débit en acier inoxydable 316L et des élastomères FFKM pour résister à ces éléments agressifs.

Alicat MCV gas mass flow controller for vacuum with integrated pneumatic shut-off valve
Vacuum sputtering using Alicat MCV mass flow controllers

Contrôle du débit d'02 accéléré pour pulvérisation cathodique réactive

Protégez l’uniformité de vos couches minces en contrôlant plus rapidement les débits de gaz réactifs. Grâce à un temps de réponse de contrôle de 50 ms ou moins, ALICAT vous garantit que les gaz réactifs introduits dans votre processus de pulvérisation cathodique réactive soient cohérents et reproductibles. Nous définissons le réglage PID pour chaque régulateur de débit en fonction de vos conditions de processus. Ces paramètres peuvent être également modifiés à tout moment après l’installation si vos besoins venaient à changer.

Réduisez les coûts de votre système de dépôt sous vide en remplaçant vos vannes d’étranglement en aval et vos modules de commande PID en optant pour le régulateur de vide intégré (IVC) d’ALICAT. Ce régulateur de pression comporte une vanne de commande en amont avec un capteur de vide à diaphragme capacitif intégré vous évitant ainsi le besoin de recourir à des manomètres externes.

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