Dünnschichtabscheidung

Optimierung der Dünnschichtabscheidung für hohen Durchsatz und Qualität

Die Erzeugung gleichmäßiger Beschichtungen hängt von einer schnellen und präzisen Gaszufuhr in Vakuumbeschichtungsanlagen ab. Dies ist für Dünnschichtverfahren von der Herstellung synthetischer Diamanten bis hin zu photovoltaischen Beschichtungsanwendungen von entscheidender Bedeutung.

Produktführer

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Massendurchflussregler für subatmosphärische Strömungssysteme

Alicat^® verfügt über eine Reihe von kundenspezifischen Lösungen, die speziell für die Aufrüstung bestehender Vakuumanlagen entwickelt wurden.

Keine Aufwärmphase. Die Ablagerungszyklen können unmittelbar nach dem Einschalten der Durchflussgeräte beginnen.
Reaktionszeit von einer Millisekunde. Die Durchfluss- und Druckregler reagieren sofort auf Änderungen der Prozessbedingungen, maximieren die Gleichmäßigkeit und minimieren den Abfall.
Kompatibilität mit mehreren Gasen. Ein einziges Gerät kann alle für den Abscheidungsprozess benötigten Gase mit hoher Genauigkeit leiten.

Anwendungen und Anwendungsfälle

Techniken der Dünnschichtabscheidung

Untersuchen Sie zwei weit verbreitete Abscheidungskategorien, die chemische Abscheidung aus der Gasphase (CVD) und die physikalische Abscheidung aus der Gasphase (PVD), und stellen Sie deren Techniken und Anwendungen vor.

Erfahren Sie mehr darüber, wie die Massendurchflussregler der Serien MCE und MCV von Alicat die Herstellung von Beschichtungen in einer Vielzahl von Beschichtungsaufbauten ermöglichen $

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Erhöhung der Geschwindigkeit und Stabilität der Vakuumabscheidung mit vorgeschalteter Druckregelung

Dünnschicht-Vakuumbeschichtung mit Druckreglern

Die Platzierung von Druckregelungsvorrichtungen vor der Kammer bei Vakuumbeschichtungsanwendungen spart Zeit und Kosten und erhöht die Genauigkeit der Vakuumbeschichtungswerkzeuge.

Erfahren Sie, warum die Anwendungsingenieure von Alicat bei der Dünnschichtabscheidung immer eine vorgeschaltete Druckregelung empfehlen $

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Übergang von manuellen und mechanischen Kontrollen zu elektronischer Präzision und Automatisierung

Erforschen Sie die beiden gängigsten Methoden der physikalischen Gasphasenabscheidung, die zum Aufbringen von PVD-Beschichtungen verwendet werden: die thermische Verdampfung und die Sputtering-Beschichtung.

Erfahren Sie mehr über die Aufrüstung Ihrer Beschichtungsanlage zur Herstellung hochwertiger, reproduzierbarer PVD-Beschichtungen $

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