Control de presión aguas arriba para sistemas de deposición en vacío
La actualización a un controlador de flujo másico Alicat es fácil. Nuestra serie MCE cumple con la especificación SEMI para la longitud de la conexión, por lo que es compatible con muchos MFC antiguos de otros fabricantes. El MCV de Alicat es un reemplazo directo para los MFC más antiguos equipados con válvulas de cierre neumáticas integradas.
Reemplazos inmediatos para controladores de flujo másico obsolescentes
Los gases corrosivos y los precursores líquidos utilizados en los procesos de deposición química de vapor (CVD) y de deposición de capas atómicas (ALD) requieren instrumentos de flujo másico que no se corroan con el tiempo. Los controladores de flujo másico de la serie S de Alicat (MC, MCES, MCVS) emplean sensores de flujo de acero inoxidable 316L y elastómeros FFKM para resistir estos elementos agresivos.
Control rápido de flujo de O2 para la pulverización reactiva
Proteja la uniformidad de sus recubrimientos de película delgada con un control más rápido de las tasas de flujo de gas reactivo. El tiempo de respuesta de control de Alicat de 50 ms o menos asegura que los gases reactivos introducidos en su proceso de pulverización reactiva sean consistentes y repetibles. Configuramos el ajuste de PID para cada controlador de flujo en función de las condiciones esperadas de su proceso, y estas configuraciones se pueden modificar en cualquier momento después de la instalación, si sus necesidades cambian.
Reduzca el costo de su sistema de deposición en vacío al reemplazar las válvulas de aceleración aguas abajo y los módulos de control PID con el controlador de vacío integrado (IVC) de Alicat. Este controlador de presión presenta una válvula de control aguas arriba que tiene integrado un sensor de vacío capacitivo, con diafragma, para eliminar la necesidad de costosos vacuómetros externos.